红外线pi膜有什么作用

红外线PI膜是一种新型高性能的薄膜进行材料，具有非常优异的耐热性、机械系统性能、化学结构稳定性、耐辐射性和良好的介电性能。

红外PI膜由聚酰亚胺(PI)制成，在各种环境下都能保持其物理化学性能。聚酰亚胺薄膜因其耐高温、高电绝缘性和耐辐射性，广泛应用于航空航天、电子电器、微电子和新能源等领域。

耐高低温:PI膜可在极端温度下使用，温度范围为-269℃至280℃，可长期使用，甚至可短时间耐受400℃的高温。这一特性使其在航空航天等领域尤为重要。

优异的力学性能:PI膜具有很高的拉伸强度。非增强 PI 基体材料的抗拉强度通常在100mpa 以上，而某些类型(例如 Kapton 薄膜)的抗拉强度可达170mpa 甚至更高。这种强度和韧性使其成为柔性印刷电路板和各种高温绝缘应用的理想选择。

化学稳定性好:PI膜通常不溶于有机溶剂，耐腐蚀，耐水解。其分子结构可以通过设计进行优化，以适应不同的应用环境和要求。

优异的抗辐射性能: PI薄膜在高剂量辐射后仍能保持较高的辐射强度，例如在5 × 10 ^ 9 ^ RAD 辐射后，其辐射强度保持在86% 。这在原子能工业和需要抗辐射材料的其他领域极为重要。

优异的介电性能:PI薄膜具有较低的介电常数(小于3.5)，引入氟原子后其介电常数可进一步降低至2.5左右。这使得聚酰亚胺薄膜成为高性能电子设备中不可缺少的绝缘材料。

由于PI薄膜的这些学生优良特性，它被广泛应用于多个国家高科技技术领域。例如，在电子商务行业中，PI膜作为一种柔性印制线路板（FPC）基材，用于中国制造以及各种精密电子信息设备；在航空和航天领域中，PI用作高温绝缘材料和结构主要部件；在新能源汽车领域，透明的PI薄膜甚至我们可以自己作为一个太阳能电池的底板。

红外线PI膜不仅具有优良的基本性能，而且通过特定的工艺进一步优化，在现代工业技术中占有重要地位。